1、至纯科技的首要事务首要分为五部分，高纯工艺体系、半导体湿法清洗设备、晶圆再生及零部件清洗、光纤传感器及光电子元器材和设备零部件，完结“半导体+生物制药+光电子”的布局，当时公司战略重心首要会集在半导体设备范畴，当时至纯科技供给的湿法设备所布置的技能道路是供给槽式设备及单片式设备掩盖现在国内产线老练工艺及先进工艺触及的悉数湿法工艺。

　　2、至纯科技应收账款和存货高企，主业造血才能较差，运营性现金流接连多年为负，四年募资40多亿给公司完结回血。优化账龄结构是公司最急迫面对的问题，商场对至纯科技当时事务布局的预期较低，低净利率水平运营状况或仍将继续好久。

　　集微网音讯，上海至纯洁净体系科技股份有限公司（证券简称：至纯科技，证券代码603690）建立于2000年，公司起先首要从事高纯工艺体系事务，在此根底之上，经过外延并购完结事务扩张，完结“半导体+生物制药+光电子”的战略布局，现在超越70%的事务在半导体范畴。生物制药方面：公司于2017年收买珐成制药59.13%的股权，进步高纯工艺在医药商场的竞赛力，然后在2020年完结100%的股权收买；光电子范畴：公司于2018年收买波汇科技100%股权，进军光传感及电子元器材范畴；半导体方面：公司于2015年开端发动湿法工艺配备研制，2016年建立院士工作站，2017年建立独立的半导体湿法事业部，努力打造高端湿法设备制作开发渠道。

　　至纯科技腔体、设备渠道规划与工艺技能都和世界一线大厂道路共同，选用先进二流体发生的纳米级水颗粒技能，是国内能供给到28纳米制程节点悉数湿法工艺的本乡供货商，公司12吋单片湿法清洗设备和槽式湿法设备代表本乡品牌参加到世界高端清洗设备商场的竞赛。经过20多年内职业界的深耕，公司在高纯工艺体系范畴现已构成从研制、规划、制作到供给链的较强竞赛优势，首要服务于一线集成电路用户，竞赛对手也均为世界厂商。

　　当时至纯科技供给的服务首要包括：高纯工艺体系集成服务、半导体湿法清洗设备、晶圆再生及部件清洗服务和半导体级大宗气体整厂供气服务。

　　而从至纯科技在 2019、 2020、2021、2022年进行四轮定向增发与发行可转债项目上来看，公司战略重点则首要侧重于湿法设备的扩产与工艺模块研制，完结事务晋级。

　　芯片出产对工艺洁净度、牢靠性要求严厉，为防止制作过程中发生或触摸细小污染物而影响芯片良率及产品功能，多种制作工序后均需设置清洗工序。因而，清洗是晶圆加工制作中的重要一环，在单晶硅片制作、光刻、刻蚀、堆积等要害制程工艺中均为必要环节。

　　半导体清洗设备品种繁复，湿法&单片清洗为现内职业干流。①若按照清洗介质的不同，半导体清洗设备可划分为湿法清洗和干法清洗两种技能道路，湿法清洗约占到芯片制作清洗过程的90%以上；②在湿法清洗工艺道路下，又细分为单片清洗设备、槽式清洗设备、组合式清洗设备等，其间单片清洗设备具有极高的 工艺操控和微粒去除才能，可有用处理晶圆间穿插污染，使用广泛，是晶圆制作环节选用的首要清洗方法。

　　现在，全球半导体清洗设备首要日本、美国、韩国等国外企业构成，算计占比超越80%。其间，日本厂商Screen Semiconductor Solutions处于抢先位置，约占商场份额的50%，其次是东京电子、Lam Research等，算计大约占30-40%，其他的为韩国厂商，三星、海力士是韩国本乡规划较大的半导体厂商，他们各安闲本乡扶持了一家清洗设备厂商，别离为SEMES和Mujin。国产设备商场占有率低，但发展迅速，至纯科技作为国内首要的清洗设备供给企业，产品现已进入国内首要半导体制作企业的供给链体系。

　　当时至纯科技供给的湿法设备所布置的技能道路是供给槽式设备及单片式设备掩盖现在国内产线老练工艺及先进工艺触及的悉数湿法工艺。公司清洗设备2018年订单1亿元等级，2019年订单2亿元，2020年订单超越5亿元，2021 年订单11 亿元，2022年方针20亿元。细分产品结构来看，单片清洗设备快速放量，2021年单片式清洗设备新增订单金额超越3.8亿元。当时规划产品能够使用在先进工艺上，首要为存储（DRAM，3D Flash）、先进逻辑产品，还掩盖一些特别工艺，例如薄片工艺、化合物半导体、金属剥离制程等；一起公司正继续投入资源研制高阶工艺设备（反响腔-18腔，超临界清洗等）。

　　国内半导体清洗范畴的重要参加者包括至纯科技、盛美半导体、北方华创、芯源微等，国内半导体清洗厂商起步比海外尽管较晚，追逐气势微弱：

　　（1）至纯科技具有 8-12 吋高阶单晶圆湿法清洗设备和槽式湿法清洗设备的相关技能，产品掩盖晶圆制作、先进封装、光伏等多个下流使用。公司湿法设备有槽式和单片式 （8~12 反响腔）两种，能够供给到 28 纳米节点悉数湿法工艺，现已切入中芯世界、华虹集团、长江存储等一线用户，单片式湿法设备已取得国内重要用户多个订单。

　　（2）盛美半导体是国内半导体清洗设备的龙头，在 12 吋线清洗设备处于职业抢先位置，产品线丰厚，清洗设备营收体量国内最大。公司首要产品为集成电路范畴的单片清洗设备，其间包括单片 SAPS 兆声波清洗设备、单片 TEBO 兆声波清洗设备、单片反面清洗设备、单片前道冲洗设备、槽式清洗设备、单片槽式组合清洗设备等。

　　（3）北方华创是国内半导体设备龙头，产品线丰厚，包括刻蚀机、PVD、CVD、ALD、氧化/分散炉、退火炉、清洗机，公司经过收买美国半导体设备出产商 Akrion Systems LLC 完善了清洗设备产线，现在公司首要清洗设备产品为单片和槽式清洗设备，可适用于技能节点为 65nm、28nm工艺的芯片制作。

　　（4）芯源微现在产品首要产品包括光刻工序涂胶显影设备（涂胶/显影机、喷胶机）和单片式湿法设备（清洗机、去胶机、湿法刻蚀机），公司出产的前道Scrubber 清洗机设备现在已到达世界先进水平，成功完结进口代替，现已在中芯世界、上海华力、厦门士兰集科等多个客户处经过工艺验证，并取得国内多家 Fab 厂商的批量重复订单。

　　长时间来看，比较较光刻、薄膜堆积、刻蚀等工艺，清洗设备较易首先完结全面的国产化。一方面，清洗的实质是用于晶圆制作过程中的杂质去除，实质上归于类辅佐工序，遭到外界搅扰程度有限，该赛道类公司国产代替的生存环境比较友善；另一方面，至纯科现在现已在老练制程的28nm节点悉数工艺都有批量的重复订单，并且在先进制程的14nm也拿到部分订单，验证经过，国产代替的方针驱动和商场需求的影响下，工艺占比较高可是价值含量较低的清洗设备公司有望完结稳增加。

　　在集成电路范畴，高纯工艺体系能将制程所需的高纯介质从源头安稳传输至终端设备，一起确保高纯介质不会因吸附气体和水分、脱放气、发生颗粒等原因遭到污染，使介质满意出产工艺的纯度要求。下流先进制作职业的高纯工艺体系直接影响了工艺设备的运转及投产后的成品率，因而高纯工艺体系广泛使用于泛半导体（集成电路、平板显现、光伏、LED等）范畴，下业产能的扩张和技能改造是此类事务的需求动力。

　　在高纯工艺范畴具有接受大项目实力的本乡企业较少，世界供货商较为依靠大陆的美国企业或许我国台湾企业等客户集体。可是当时部分本乡体系供货商（至纯科技、正帆科技、朗脉股份）的产品和服务现已顺畅进入到全球一线品牌客户，全体的市占率得到了进步。至纯科技旗下设有2个院士专家工作站，别离研制半导体范畴和光电子范畴的使用，并于2018年完结上海华力12英寸28nm先进工艺产线的建造，完结了公司在国内高纯工艺体系范畴的龙头位置，然后不断拓宽客户，积累了一批安稳的客户同伴，如长江存储、中芯世界、合肥协鑫、士兰微、海力士等。

　　当时至纯科技为集成电路制作企业及泛半导体工业供给规划、设备、测验调试等服务。高纯工艺体系的中心是体系规划，体系由专用设备、侦测传感体系、自控及软件体系、管阀件等组成；体系的前端衔接高纯介质贮存设备，体系的终端衔接客户自购的工艺出产设备。2021年起，公司将高纯特气设备、高纯化学品供给设备、研磨液供给设备、前驱体供给设备、工艺尾气液处理设备、干法机台气体供给模块等工艺支撑性的设备作为独自的分类，每年交给的各类设备超越5000台套。

　　此外，至纯科技也为国内28纳米工艺节点的集成电路制作厂商供给气体配套，出资建造了半导体级的大宗气体工厂，将为用户供给至少15年的高纯大宗气体整厂供给，该工厂坐落上海嘉定。2022年年头顺畅供气，目标彻底合格，出产安稳，产值爬坡顺畅，建成悉数达产后估计完结年均销售收入2亿元。2022 年 8 月 4 日，公司中标长江存储国家存储器基地项目特别气体体系包，中标价格为2.76 亿元（其间国内设备资料2.32 亿元，设备服务 0.44亿元）。标的首要内容为各类工艺气体（含用于氧化/分散、刻蚀、离子注入、堆积等干法工艺）的特气设备，即工艺支撑性设备，标的包括规划、设备和调试等服务。

　　晶圆再生首要用于晶圆制作产线中测验片的收回再利用，因为控片、挡片价格较为贵重，晶圆厂为减缩本钱通常会将使用过的测验片托付晶圆再生服务公司进行加工并收回，经过去除晶圆外表的杂质和缺点，使处理后的晶圆在曲正度和外表的颗粒数量上都到达新片的规范，完结循环再利用。

　　当时，全球晶圆再出产能首要会集于日本和我国台湾，抢先企业为日本的RST、Hamda Heavy和Mimasu，我国台湾的中砂、辛耘、升阳，6家企业的12英寸晶圆再出产能算计占比全球商场的90%。我国大陆晶圆再生的商场需求暂未翻开，这首要是因为大陆晶圆产能全球占比较小，寄往日本和我国台湾进行再加工的运输本钱又太高，整个职业依然处于建造初期。而跟着晶圆产能的搬迁，当时海内外龙头正活跃布局我国大陆的晶圆再生商场，日本RST分两期在大陆出资12英寸晶圆再生项目，本乡企业至纯科技、华海清科、协鑫集成、晶芯半导体等也在活跃布局。

　　至纯科技在合肥布局晶圆再生及部件清洗项目，现在已通线试产，是国内首条投产的12英寸晶圆再出产线，部件清洗项目为国内首条建立完好的阳极产线。合肥一期项目规划产能7万片/月，现已投产，是国内首条投产的12英寸晶圆再出产线万片/月，正在出资建造中，估计项目满产后年产值超6亿元。公司先发优势显着，晶圆再生事务有望继续扩张。

　　合肥的工厂一起装备了为用户做湿法的工艺验证和工艺开发的联合实验室，测验设备彻底对标晶圆厂，为工艺开发打好了根底。该项目选用Fab等级机台与环境，流程均按照Fab高规范履行，能够做到工艺移除量低，对晶圆损害小，能够延伸寿数。其优势在运输费用低，不需出口报关，便利便利，客户不必积压许多晶圆及零部件，进步周转率。该项目以14纳米晶圆厂需求为规划根底，将服务于我国半导体高阶商场。

　　从至纯科技的营收规划和净赢利体现状况来看，公司的盈余才能的确稍弱。在收入端，2018-2022年的运营收入复合增加率坚持高增速，2021年到达20.84元，同比增加49%。2021年半导体清洗设备快速放量，2021-2022H1别离完结收入7.01和4.66亿元，成为收入端增加重要驱动力。赢利端：2018-2022年归母净赢利复合增加率到达59%，高于收入端，可是在2022H1的扣非净利率也只要0.97亿元。公司全体的赢利水平体现关于需求快速扩张、成长性极佳的半导体设备范畴来说，的确显得有些差强人意。

　　拆分至纯科技的营收结构来看，高纯工艺全体营收依然最高，设备类收入增加最快，光传感器范畴的收入则比较安稳。而营收较为安稳的光传感器材的毛利率水平体现最高，对下流厂商具有议价权，可是公司后续定增项目的布置上，对此类事务的资源歪斜弱化。半导体设备仍处于一个设备新品导入期阶段，营收规划增加较快，但实践的毛利率边沿改变却较弱。在晶圆产能扩产如火如荼的两年时间里，产线对各类设备需求量激增，公司的设备毛利率体现旁边面阐明清洗设备范畴的竞赛较为剧烈，产品同质化或许较为严峻。

　　而比照同职业公司的毛利率体现来看，2022年Q3设备类企业的毛利率全体有个抬升的趋势，可是至纯科技的毛利率体现却有个小幅度的跌落，至纯科技的盈余才能全体略弱于同行职业。从产品的布局视点上来看，盛美上海的自主研制的半导体电镀设备取得下流客户的认证，批量出货，外以清洗设备为拳头产品，提振公司全体的毛利率水平；芯源微的高毛利率水平的涂胶显影设备占比较高，工艺水平能够比美世界一线厂商，订单也在大幅增加；北方华创设备管线完全，给晶圆厂商供给配套出货。因而以较低毛利率体现的高纯工艺体系占首要营收比重的至纯科技毛利率体现水平也就低于同行体现。

　　值得注意的是，至纯科技一向以来的研制投入/运营收入的占比较低，根本维持在7%以下，当时科创板的研制要求最低是维持在5%以上，高科技公司投入份额一般维持在10%，与同行公司比较研制份额大幅偏低。

　　因为至纯科技根本依据客户需求定制化出产，因而存货是至纯科技重要的先行目标，2022年第三季度至纯科技的存货高达16亿元，比2021年增加了许多。

　　此外，应收账款是至纯科技金融最大的财物科目，至纯科技2018-2021年应收账款/运营收入的份额一向居高不下，2021年应收账款余额为12亿，截止到2022年第三季度更是高达15亿，至纯科技应收账款根本按账龄计提坏账。

　　增收不增利的现象或仍将继续。从现金流量表来看，至纯科技的运营性现金流长时间处于负收益，主业的造血才能比较一般，从上述图表能够看到公司应收账款回款比较慢，存货水平比较高。公司为期四年的接连融资行为也或许是为了安稳现金流，此外，公司的有息负债比较高，2022年的长时间借款有8亿左右，公司的出资活动的现金流净额也在继续减少公司的赢利水平。

　　从全体的营收估摸和估值水平上来看，商场对至纯科技当时事务布局的预期较低，低净利率水平运营状况或仍将继续好久。前道清洗设备的体量相对较小，营收天花板简单触及，现在各厂商设备布局产品存在必定的同质化竞赛。当时反而营收规划最小的芯源微享受了更高的估值待遇，这首要是半导体设备厂商的错位布局对公司未来继续发展影响比较大，低国产代替程度的设备厂商更简单遭到商场的喜爱。

　　全体来看，化工工程身世的至纯科技在转入半导体设备范畴之后，晶圆客户扩产的快车道带着至纯科技的收入也快速增加，半导体收入占比也越来越高，可是存货和应收账款的高企，让公司的现金流状况不佳。公司想要改进运营根本面，现在来看需求处理的问题还有许多，活跃优化账龄结构和加大研制投入倒逼更先进制程设备的问世是公司要面对的最紧要问题，继而捉住半导体设备国产化窗口期，完结真实的”进化之路”。